下面，詳細介紹真空鍍膜機的各部分組成及其工作原理：

1、真空主體：真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應(yīng)用最多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔體由不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦?！　?/p>

2、輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機械泵、增壓泵（主要介紹羅茨泵）、油擴散泵三大部分組成。此排氣系統(tǒng)采用"擴散泵+機械泵＋羅茨泵＋低溫冷阱＋polycold"組成。排氣流程為：機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài)，為擴散泵后繼抽真空提供前提，之后當(dāng)擴散泵抽真空腔的時候，機械泵又配合油擴散泵組成串聯(lián)，以這樣的方式完成抽氣動作?！?/p>

      負偏壓的作用

提供粒子能量；

對于基片的加熱效應(yīng)；

清除基片上吸附的氣體和油污等，有利于提高膜層結(jié)合強度；

活化基體表面；

對電弧離子鍍（Arc Ion Plating)中的大顆粒有凈化作用；

偏壓的分類

根據(jù)波形可分為：

直流偏壓

直流脈沖偏壓

直流疊加脈沖偏壓

雙極性脈沖偏壓

直流偏壓和脈沖偏壓的比較

傳統(tǒng)的電弧離子鍍是在基片臺上施加直流負偏壓控制離子轟擊能量, 這種沉積工藝存在以下缺點:

        基體溫升高, 不利于在回火溫度低的基體上沉積硬質(zhì)膜。

        高能離子轟擊造成嚴重的濺射, 不能簡單通過提高離子轟擊能量合成高反應(yīng)閾能的硬質(zhì)薄膜。

直流偏壓電弧離子鍍工藝中,為了抑制因離子對基體表面連續(xù)轟擊而導(dǎo)致的基體溫度過高,主要采取減少沉積功率、縮短沉積時間、采用間歇沉積方式等措施來降低沉積溫度，這些措施可以概括地稱為能量控制法'這種方法雖然可以降低沉積溫度,但也使薄膜的某些性能下降,同時還降低了生產(chǎn)效率和薄膜質(zhì)量的穩(wěn)定性，因此,難以推廣應(yīng)用。

脈沖偏壓電弧離子鍍工藝中,由于離子是以非連續(xù)的脈沖方式轟擊基體表面,所以通過調(diào)節(jié)脈沖偏壓的占空比,可改變基體內(nèi)部與表面之間的溫度梯度,進而改變基體內(nèi)部與表面之間熱的均衡補償效果,達到調(diào)控沉積溫度的目的。這樣就可以把施加偏壓的脈沖高度與工件溫度獨立分開(互不影響或影響很小)調(diào)節(jié),利用高壓脈沖來獲得高能離子的轟擊效應(yīng)以改善薄膜的組織和性能,通過降低占空比來減小離子轟擊的總加熱效應(yīng)以降低沉積溫度。